標題SCR脫硝測控系統中的氨逃逸監測系統

提供者：武漢天禹智控科技有限公司發布時間：2024/4/11 閱讀次數：59次 >>進入該公司展臺

隨著我國碳中和計劃的深入實施，大氣污染排放指標逐漸收緊，排放企業面臨更多更嚴格的限制。在確保經濟和效益的同時，企業必須對自身的排放處理和改造提出更高要求。

在大氣污染中，氮氧化物是主要的污染源之一，主要來源于燃燒和化工生產過程。目，各大排污企業主要采用 SCR/SNCR 和高分子脫硝技術。這些技術基本上能夠實現 90% 及以上的處理效率，已相對成熟。然而，現有的脫硝技術仍有一些需要改進的地方。其主要原理是：在催化劑的作用下，向溫度為 280-420 攝氏度的煙氣中實時噴入氨，將 NOx 還原為 N2 和水。為確保反應與煙氣排放量相匹配，必須精確控制噴入的氨量，否則可能導致氨逃逸。

氨逃逸會帶來多方面的危害。先，逃逸的氨氣造成資金浪費和環境污染。其次，氨逃逸會腐蝕催化劑模塊，導致催化劑失活和堵塞，縮短其壽命。此外，逃逸的氨氣與空氣中的 SO3 反應生成具有腐蝕性和粘結性的硫酸氨鹽，可能導致下游的脫銷設備中的空預器蓄熱原件堵塞和腐蝕。因此，在煙氣處理過程中加裝氨逃逸監測設備至關重要。

氨逃逸在線分析系統

概述

氨逃逸在線分析系統是天禹智控自主研發新型在線監測系統，該產品基于可調諧激光吸收光譜技術（TDLAS）的原理，可測量 NH3、H2S、HCL、HF 等氣體濃度。預處理系統采用熱濕法設計，該系統具有靈敏度高、響應速度快、不受背景氣體干擾、非接觸式光學測量等特點，為實時準確地反映逃逸氨的變化提供了可靠保證。

產品特點

● 采用熱濕取樣方法，不受現場安裝條件的限制，適用性廣，使用和維護簡單；

● 可靠的長光程加熱氣室設計；

● 超低濃度測量，分辨率可達0.1ppm；

● 高溫取樣，涂層氣室，取樣損失小于0.1ppm/米；

● 免標定設計，維護簡單，使用成本低；

技術參數

典型應用

廣泛應用于燃煤發電廠、水泥廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、玻璃廠、垃圾發電廠、化工廠等 SCR 或 SNCR 脫硝裝置的氨氣逃逸排放監測和過程控制。

關鍵詞：氣體檢測

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