標題吸附質氮氣氣源中的氣體雜質對吸附過程的影響

     對于99.995%的高純吸附載氣和吸附質氣體，其中的主要雜質氣體為水份。假設氣源氣體中水份的含量為0.004%，則樣品處在-195.8℃、30ml/min的流速中120min內停留在粉末表面的水的量為 0.14ml（標況下的體積），而對于500mg比表面積為1m2/g的材料，在其表面形成水的單分子層吸附所需要的水蒸汽的量為：0.12  ml（標況），與實際停留在粉末表面的水量相當，材料表面已經被水分飽和；如果不吹掃處理繼續測試，那測試結果將不可能正確。對于色譜法孔徑測試需要測試三四十個分壓點，影響更是顯著，若分壓點之間不做吹掃處理，最后得到的結果將不是固體材料本身對氮分子的吸附了，而是包覆了水分子的顆粒對氮分子的吸附了，孔隙也早已被高沸點易吸附氣體雜質H2O、CO2飽和。
     要消除吸附質氣源中的氣體雜質H2O、CO2等的影響， 可采用冷阱氣體凈化裝置，冷阱是消除高沸點氣體雜質的有效方式；比表面儀配備的冷阱，使本會被樣  品吸附的水份等高沸點雜質提前被冷阱捕獲，使得經過凈化后的高純氮和高純氦氣體中的水分含量低于10-17Pa，達到超高純氣體狀態；
     3H-2000系列比表面儀是國內唯一配備冷阱的比表面儀器，這也是該系列儀器能夠取得高精度和高分辨率的因素之一。