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適用于半導體基板的急速高溫加熱退火
本裝置是試樣放置在碳素susceptor Si導線上，紅外線燈管對試樣正反面進行加熱。碳素susceptor內裝有5對熱電偶來調整加熱區的功率平衡，讓加熱室得到溫度分布的均一性。
●裝置的構成
1 | 本體系統架臺 | 1臺 |
2 | 紅外線加熱爐 Pss98/98# | 1臺 |
3 | 加熱，冷卻室 | 1臺 |
4 | 程序溫度控制器 | 1臺 |
5 | 真空排氣系統 | 1臺 |
6 | 氣體觸摸屏/PLC回路 | 1臺 |
7 | 壓力控制系統 | 1臺 |
8 | 本體架臺/配電盤 | 1臺 |
●技術指標
溫度范圍 | 50～700℃ Max 1000℃ |
試樣尺寸 | 約50mm×50mm 硅片4張/連續處理 2行2列放置 |
氣氛 | 流動氮氣，不活性流動氣體 |
