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              技術文章

              真空鍍膜二硫化鉬Mos2納米涂層

              點擊次數:153 發布時間:2022/7/25 18:03:32
               性能優勢

              · Coating deposition carried out using a high density of low energy bombarding ions.

              使用高密度低能量轟擊離子進行沉積鍍膜。

              · Deposition of very dense, non-columnar coating structures with low internal stresses.

              鍍層致密度好,低柱狀晶結構,內應力低

              · Deposition of coatings with dense structures at low temperatures.

              可在低溫環境下沉積致密結構的鍍層

              · High efficiency of ion cleaning resulting in coatings with the highest levels of adhesion.

              高效率等離子清理以提供高的鍍層結合強度。

              · Coatings quality is assured by the use of specially designed Plasmag sputter sources, which create an intense plasma and high ion bombardment of work pieces.

              鍍層品質保證是由使用門設計plasmag濺射源及提供高密度的等離子。   

               

              原創作者:平湖比爾安達新材料科技有限公司

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